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        氮化鋁/氮化硅(AlN/SiN)陶瓷基板的研磨拋光

        文章出處:責任編輯:人氣:-發表時間:2024-01-10 11:33【

          氮化鋁/氮化硅(AlN/SiN)陶瓷基板的研磨拋光,需要用粗拋和精拋兩道工藝。粗拋液用來研磨快速去除表面缺陷和不良,精細拋光液用來平坦工件表面提升精度。吉致電子陶瓷專用研磨液/拋光液能減少研磨時間,同時提高陶瓷工件拋光的質量,幫助客戶縮短工時提高工作效率。

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         陶瓷基板的研磨過程一般包括雙面研磨(35-60分鐘)和精細拋光(120分鐘)。在不到2.5小時的時間里,得到10-15納米的Ra。

         氮化鋁/氮化硅散熱襯底拋光方案:①雙面研磨(35-60分鐘)搭配吉致電子類多晶研磨液超精細拋光(240-480分鐘):納米金剛石研磨液 + 研磨墊

         吉致電子拋光液廠家,研發生產硬質陶瓷、氮化鋁基材、氮化硅基材等提供精密研磨拋光耗材及工藝,為您提供品質CMP拋光配套產品和設備及拋光解決方案,讓解決您的拋光難題。

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