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        吉致電子拋光材料 源頭廠家
        25年 專注CMP拋光材料研發與生產

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        吉致電子--氧化硅拋光液/硅溶膠拋光液

        產品分類: 拋光液
          吉致電子拋光液/研磨液/精拋液
          產品名稱:氧化硅拋光液/硅溶膠拋光液/氧化硅懸浮液/硅拋光液/二氧化硅拋光液
          磨料類型:高純納米氧化硅微粒
          磨料粒徑:10-150nm(最高可達150nm)
          產品特點:吉致氧化硅拋光液懸浮性佳,化學性能穩定,拋光工件效率高、工時短、無劃傷。
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            氧化硅拋光液·參數吉致電子,CMP拋光材料 可定制·速率高·效果好·專利配方CUSTOMIZABLE, HIGH SPEED, GOOD EFFECT AND PATENTED FORMULA

            產品名稱:氧化硅拋光液,硅溶膠拋光液,二氧化硅拋光液,精拋液,納米拋光液

            磨料類型:高純納米氧化硅微粒

            磨料粒徑:10-150nm(最高可達150nm)

            吉致電子氧化硅拋光液懸浮性極佳,高固含量、分散性好,易搖散且不團聚,化學性能穩定。氧化硅精拋液拋光效率高,能有效縮短工時,磨拋后工件呈現鏡面效果,無劃傷、高平坦。

            產品工藝及用途:通過離子交換法和水解法制備不同粒徑的穩定硅溶膠,經鈍化添加化學助劑以及特殊工藝配制的二氧化硅拋光漿料。適用集成電路/半導體/特殊材料/金屬材質/脆硬材料的鏡面拋光。

            氧化硅拋光液·晶體形態

            吉致電子氧化硅拋光液/氧化硅精拋液/硅溶膠拋光液

            可按客戶工藝要求調制硅溶膠拋光漿料

            氧化硅拋光液——二氧化硅微粒在拋光工件表面的損傷層極微,硬度和硅片的硬度相近,常用于半導體硅片的拋光。

            氧化硅精拋液——采用納米級的硅溶膠有效減小表面粗糙度和損傷層深度。

            二氧化硅(SiO2)是硅溶膠拋光液的重要組成部分,其粒徑大小、致密度、分散度等因素直接影響化學機械拋光的速率和拋光質量。

            吉致拋光液 硅溶膠 氧化硅 精拋液

            <吉致電子>氧化硅拋光液特點:

            1.分散性好、不結晶。

            2.粒徑分布廣泛:5-100nm。

            3.高純度(Cu2+含量小于50 ppb),有效減小對電子類產品的沾污。

            4.經特殊工藝合成的化學機械拋光液,納米顆粒呈球形,單分散,大小均勻,粒徑分布窄,可獲得高質量的拋光精度。

            5.適合與各種拋光墊、合成材料配合拋光使用。

            6.PH、粒徑、穩定離子等可以根據客戶定制(10-150 nm)

            吉致拋光液 二氧化硅拋光液 硅溶膠拋光液

            拋光過程中具有:

            1.高拋光速率,利用大粒徑的膠體二氧化硅粒子達到高速拋光的目的。(可以生產150 nm)。

            2.高平坦度加工,吉致氧化硅精拋液是利用SiO2的膠體粒子,不會對加工件造成物理損傷,達到高平坦化加工。

            拋光過程后具有:

            1.精度可以達到納米

            2.劃傷和挖傷可以達到0/0

            氧化硅拋光液·產品參數

            吉致電子氧化硅拋光液/硅溶膠精拋液

             多種型號對應不同磨拋需求(查看更多型號請聯系我們)

            吉致電子CMP拋光材料--氧化硅拋光液產品規格
            型號/TypeJZ-S40NJZ-S60NJZ-S80NJZ-S100NJZ-S120NJZ-S150N
            磨料SiO2SiO2SiO2SiO2SiO2SiO2
            平均粒徑40nm60nm80nm100nm120nm150nm
            PH8-128-128-128-128-128-12
            定制/現貨除上述規格外,吉致電子拋光液可根據客戶不同工件磨拋要求調配定制

            拋光液物性表
            主要成分:外觀:密度:pH值:
            SiO2白色液體1.15±0.059.8±0.5
            拋光溫度:稀釋率<1:拋光壓力:
            10~38℃1~10150~250g/cm&sup2

            吉致電子氧化硅拋光液使用方法:

            1.可根據拋光操作條件用去離子水進行5-20倍稀釋。

            2.稀釋后,粗拋時調節PH11左右,精拋時調節PH9.5左右。pH調節可以用10%的鹽酸、醋酸、檸檬酸、KOH或氨水在充分攪拌下慢慢加入。

            3.循環拋光可以用原液。

            吉致電子氧化硅拋光液儲存方法:

            1.貯存時應避免曝曬,貯存溫度為5-35℃

            2.低于0℃以上儲存,防止結冰,在無度以下因產生不可再分散結塊而失效。

            3.避免敞口長期與空氣接觸。

            吉致電子氧化硅拋光液價格:

            吉致電子的氧化硅拋光液生產技術是引進國外生產技術和設備,特殊化學配方制備而成。吉致電子拋光液品質可以媲美進口同類產品。

            本土化生產的優勢使吉致電子CMP拋光液產品交貨周期快,品質好,拋光液價格實惠親民。

            吉致電子研發團隊--15年經驗CMP拋光液配方工程師,為您攻克拋光難題!

            吉致電子 拋光液研發團隊

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